通第（dì）PET薄膜在縱向和橫（héng）向的F-5值在（zài）100~390MPa.但，這種（zhǒng）薄（báo）膜對於長時間放聲或小尺寸的磁帶基膜是不夠用的。因這（zhè）些磁帶要求薄膜硬度更大。薄膜的（de）有效硬度是與薄（báo）膜厚度3X膜模量成比例的，即使（shǐ）薄膜很薄，也應該有（yǒu）較高（gāo）的模量。高模量的薄膜是由增加薄膜分子取向獲得（dé）的。因為縱向模量與磁帶運動性（xìng）有關，而橫向模量與磁頭接觸性（xìng）有關，要（yào）求（qiú）在兩個方向上都（dōu）具有高模量。（磁帶的運動性好壞通常是由磁帶的伸長率、磁帶邊緣損壞及磁帶的折疊狀況來評價的）。

以下列舉了一些類型的拉伸薄膜：

①半拉伸薄膜（縱向F-5值為130-150MPa）；

②一般拉伸薄膜（縱向F-5值為150~180MPa）；

③過拉伸薄膜（縱向F-5值為180~220MPa）；

④超過拉伸薄膜（縱向F-5值為220~260MPa）；

⑤雙側拉伸薄膜（縱（zòng）向F-5值為150MPa；橫向F-5值（zhí）為140MPa）.

隨著拉伸的增加，PET薄膜的熱收縮率（lǜ）收縮率增加，熱收縮（suō）的變化是與（yǔ）F-5值的關係是不（bú）可逆的。

生產拉伸薄膜的基本過程如下：

（1）LD方向拉伸；（2）TD方向拉伸；

（3）LD方向再拉伸；

（4）如（rú）果需要，TD方向再拉伸；

（5）熱固化。

LD方向再拉伸是相當困難的，因（yīn）為薄膜非常薄和寬，會導致（1）兩邊應成型得相當厚，以防此寬度減小；

（2）預熱和拉伸（shēn）輥的偏差（chà）應該盡可能小；

（3）拉伸溫度應隨薄膜通過機器的進程而升高。

由於再拉伸過程通（tōng）常成本較高，因此提出了另一種方法以降低（dī）製造成本。這種新工藝的特點是，第一次的LD方向拉伸分兩步進行：

（1）流延薄膜首先在120~150℃在LD方向拉伸，控製拉伸比，使拉伸薄膜的雙折射值在0.005~0.025之間；

（2）之後（hòu）第二（èr）次LD方（fāng）向的拉伸（shēn）在60~100℃之間進行；

（3）這樣獲得的單向拉伸薄膜在TD方向以4.3以上的拉伸比進行拉伸；

（4）獲得雙向拉伸薄膜之後再熱固化。

根據這樣的加工工藝，由於不需要再次拉伸過程，因此拉伸薄膜的（de）製造成本較低。有各種方法生產過（guò）拉（lā）伸薄膜，下麵列（liè）舉了其中（zhōng）的一些方法。

（1）雙取（qǔ）向的薄膜再次同步雙向拉伸

第二次同步拉伸（shēn）的拉伸比分別（bié）為：LD方向為1.05~1.90，TD方向為1.0~1.9.同步拉伸的拉伸溫度在（Tg+10）℃和（Tm-40）℃之間（Tg：玻璃化轉變溫度；Tm.熔融溫度）。

（2）多步LD方向拉伸與再（zài）拉伸（shēn）相結（jié）合。

流延薄膜以多步形式在LD方向拉伸為（wéi）雙折射值在0.02~0.10的單（dān）取向薄膜（mó），之後薄膜以2.5~45的拉伸比（bǐ）在TD方向拉（lā）伸，並以1.5~2.5的拉（lā）伸比在LD方向（xiàng）再拉伸。經過LD、TD及LD拉（lā）伸產品的（de）拉（lā）伸比高於25.

（3）多步LD拉伸與同步雙向拉伸相結合.

流延薄膜以多步形式在（zài）LD方向拉（lā）伸為雙（shuāng）折射值在0.02~0.10的單取向薄膜。之後薄膜（mó）以高於2.5的拉伸比（bǐ）進行TD方向拉伸，之後進行同步雙向拉伸，此時兩方向的拉伸比在1.4~2.5，產品總的（de）拉伸比在27以（yǐ）上（shàng）。

（4）伴有區域退火的區域拉伸。

區域拉伸和退火包括在按壓點加熱的張力條件下的薄膜（mó）拉伸和退火。區（qū）域拉伸的目的是在防止結晶的同時獲得較高的分子取向，它是通過大致在Ts溫度時薄膜的頸縮拉伸獲得的。區（qū）域退火的目的是在TC-Tm溫度之間較高的張（zhāng）力下，對拉伸薄膜退火的方法，獲得分子鏈伸長的晶體。區域退火薄膜的LD方向模量幾乎是原薄膜的兩倍，盡管（guǎn）TD方向的（de）模量有（yǒu）所下降。

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